SK하이닉스 핵심기술 中유출 협력사 간부 2심도 실형…“공동개발했어도 유출 안돼”

法 공동개발 기술 유출도 "SK하이닉스 동의 얻었어야"
협력사 법인도 1심 벌금 4억에서 10억으로 늘어나

서울중앙지방법원/박성일 기자

SK하이닉스와 삼성전자의 핵심 기술을 중국 경쟁업체에 유출한 협력업체 부사장과 임직원들이 항소심에서 원심보다 무거운 실형을 선고받았다.

서울고법 형사7부(이재권 송미경 김슬기 부장판사)는 18일 산업기술보호법 위반 및 부정경쟁방지법 위반(영업비밀 국외누설 등) 등 혐의로 기소된 SK하이닉스 협력업체 부사장 A씨에게 원심보다 6개월 늘어난 징역 1년6개월을 선고했다.

양벌규정으로 기소된 협력사 법인은 1심의 벌금 4억원보다 많은 벌금 10억원을 선고받았다. 양벌규정이란 법 위반 행위가 이뤄진 경우 행위자뿐만 아니라 법인에 대해서도 형을 내리는 규정을 말한다.

아울러 1심에서 징역형의 집행유예를 선고받은 연구소장 등 임직원 3명도 징역 1년∼1년 6개월의 실형으로 형이 늘었다.

항소심 재판부는 "피고인들의 범행은 피해 회사뿐 아니라 우리나라 산업 전반에 큰 영향을 미쳤다"며 "특히 부사장 A씨는 최종 결정권자로서 범행을 지휘하고 깊이 관여했다"고 지적했다.

이어 1심에서 무죄로 판단한 피고인들과 SK하이닉스의 공동 개발 기술 유출 혐의에 대해선 "기술을 SK하이닉스의 경쟁업체 등 제3자에게 은밀하게 제공하려면 적어도 사전에 SK하이닉스의 동의를 얻었어야 했다"며 "비밀유지 대상인 산업기술에 해당하고, 이를 유출한 것은 범죄"라고 판단했다.

A씨 등은 SK하이닉스와 협업하면서 알게 된 HKMG(High-K Metal Gate) 반도체 제조 기술과 세정 레시피 등 반도체 관련 핵심기술과 첨단기술, 영업비밀을 2018년부터 중국 반도체 경쟁업체로 유출한 혐의를 받고 있다.

또한 삼성전자와 자회사인 세메스의 전직 직원들을 통해 몰래 취득한 세메스의 초임계 세정장비 도면 등 반도체 첨단기술과 영업비밀을 활용해 중국 수출용 장비를 개발한 혐의도 있다.

앞서 1심은 "국가 핵심기술 관련 공정 기술을 유출했으며 세메스 정보를 몰래 취득해 초임계 세정장비를 개발하는 등 죄질이 좋지 않다"며 A씨에게 징역 1년을 선고했다.